溶劑純化系統(tǒng)

在溶劑純化系統(tǒng)的設計生產(chǎn)中溶入了多項先進的和技術。 科技獨特的分配系統(tǒng)使多個用戶更方便地使用無水溶劑，我們的五通閥設計是當今全球領域內公認的和安全的操作系統(tǒng)。提高風量、風溫，會提高干燥效率，但墨層較厚時，也可能會造成墨層表面迅速干硬，從而阻礙墨層內溶劑的逸出，導致溶劑殘留量增大。Pure Solv MD分配系統(tǒng)通過使用我們的綜合分配管系統(tǒng)，可以促進真空和惰性氣體更合理地分配，更節(jié)約能源。通過雙凈化圓管設計可凈化800升溶劑提供不同的接口供用戶選擇, 如 24/40, 14/20, 29/32 不銹鋼接口. 另有其他接口如球形接頭和針型開關閥等儲存罐容量20升. 儲存罐有特別的防爆及防護設計活動式靜電接地夾配備7微米不銹鋼微粒過濾器每種溶劑配備7psi壓力閥門調節(jié)器以防止玻璃器皿過分受壓五通閥設計，美觀又容易操作

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溶劑凈化系統(tǒng)

名稱：溶劑凈化系統(tǒng)及其方法

技術領域：本發(fā)明涉及一種溶劑凈化系統(tǒng)和方法。例如，合成和有機金屬化學需要非常高純 度的溶劑。尤其是，合成化學需要去除氧氣和潮濕成分的溶劑。有機金屬化學甚至需要對 潮濕成分更高純度的溶劑。換句話說，在使用之前，溶劑需要被'干燥'。

關于環(huán)保溶劑型清洗劑和環(huán)保水基型清洗劑的比較說明

眾所周知，當前工業(yè)清洗劑主要分為溶劑型和水基型兩種，那么在實際應用中它們又有哪些區(qū)別呢？

1、 環(huán)保方面：

碳氫清洗劑屬于ODS類物質，對大氣臭氧層有破壞作用，屬于環(huán)?？刂莆镔|，水基溶劑是環(huán)保的、無毒的，可直接排放。

2、 設備方面：

水基型清洗后要用純水漂洗，并需烘干，用電量稍大一些，同時占地面積相對較大，設備成本也對較高。機電設備清洗劑清洗后能自然發(fā)揮，工位相對較少，耗電量約低于水基清洗設備，它的占地面積相對較小。

3、 清洗效果方面

碳氫清洗劑采用的是直接溶解所以超聲波清洗速度快，周期短，效果直接，徹底。水基清洗是采用洗劑替換的方式，并且是兩次替換（次是溶劑替換油污等雜質，第二次是純水替換溶劑），替換后還需要烘干，故相對清洗時間較長，但水基清洗后沒有殘留問題。

4、 使用成本方面

環(huán)保溶劑型清洗劑使用原液清洗， 雖然可以重復使用，但由于其高揮發(fā)性，及產(chǎn)品的粘附性，其用量十分大。水基溶劑均是兌水使用，單價雖然約高于有機1溶劑，但用量小。水基漂洗需用純水，但純水的制水成本較低。

綜上所述，兩種清洗均能達到清洗效果，水基清洗的使用成本低，安全、環(huán)保。但設備復雜，溶劑型清洗劑清洗速度快、揮發(fā)快。

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